应用方向：科研与教学
产品优势：耐氟基或更弱腐蚀性气体，带单片送取样室（Load-Lock）
产品配置：
★样片数量及尺寸：1片Ф6英寸
★刻蚀材料：包括并不限于单晶硅、多晶硅、SiO2、Si3N4、Ti、W、聚合物等
★刻蚀腔体：高真空系统
★Load-Lock：低真空系统 或 高真空系统。单片装，样品自动运送。
★刻蚀不均匀性：±3%-±6%
★刻蚀速率：0.1-4μm/min（视具体材料与工艺）
★工作台：可升降，包含水冷
★电源配置：上电极射频，下电极偏压，包含自动匹配
★气路数量与种类：6路耐氟基腐蚀气路 或 用户选配
★深硅刻蚀系统：可选配
★He冷背吹系统：可选配
★终点检测控制：可选配质谱仪
★操作模式：全自动+半自动控制
