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One inch and one inch.
不容你等待

无掩膜光刻系统MLL-C900

浏览: 时间:2020-02-13

应用领域 :

MEMS

掩模版制作

IC器件

生物芯片

3D光刻

微传感器

微流體控件

主要功能及特征:

器件无掩模直写光刻功能

光掩模版制作功能

3D结构曝光功能

自动对准功能

背部对准功能

用户自定义标记对准功能

可视化定点曝光功能

自动聚焦功能

快速、精细两种曝光方式

405nm ( 375nm 可選) LED光源

多種數據輸入格式( DXF/CIF/GDSI/Gerberi*選配/BMPTIFF)

基于Windows系统,用户界面简单,易于操作使用

不规则样片曝光

小批量,多品种